拋光液檢測(cè)儀采用動(dòng)態(tài)光散射原理檢測(cè)分析顆粒系的粒度及粒度分布，粒度分析復(fù)合采用 Gaussian 單峰算法和擁有技術(shù)的多峰算法，對(duì)于多組分、粒徑分布不均勻液態(tài)分散體系的分析以及膠體體系的穩(wěn)定性分析具有*優(yōu)勢(shì)，其的解析度及重現(xiàn)性是其他同類產(chǎn)品*的。

   拋光液檢測(cè)儀高拋光速率，利用大粒徑的膠體二氧化硅粒子達(dá)到高速拋光的目的，粒度可控，根據(jù)不同需要，可生產(chǎn)不同粒度的產(chǎn)品，高平坦度加工，本品拋光利用SiO2的膠體粒子，不會(huì)對(duì)加工件造成物理損傷，達(dá)到高平坦化加工，效果穩(wěn)定，不易產(chǎn)生麻點(diǎn)、料紋、橘皮等不良反應(yīng)，可達(dá)到鏡面效果。

   拋光液檢測(cè)儀是以高純度硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品，拋光液檢測(cè)儀廣泛用于多種材料納米級(jí)的高平坦化拋光。如：藍(lán)寶石、氧化鋯陶瓷、氧化鋁陶瓷、硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件、鋁合金、鈦合金、不銹鋼等材料的拋光加工。

  化學(xué)機(jī)械拋光是半導(dǎo)體制造加工過程中的重要步驟。化學(xué)機(jī)械拋光液是由腐蝕性的化學(xué)組分和磨料兩部分組成。拋光過程很大程度上取決于晶片表面構(gòu)型。晶片的加工誤差通常以埃計(jì)，對(duì)晶片質(zhì)量至關(guān)重要。拋光液粒度越均勻、不聚集成膠則越有利于化學(xué)機(jī)械拋光加工過程的順利進(jìn)行。

   拋光液檢測(cè)儀是判定自吸過濾式防顆粒物呼吸器質(zhì)量好壞的關(guān)鍵參數(shù)之一，由于國外同類檢測(cè)設(shè)備價(jià)格和維護(hù)成本過高，大多數(shù)防塵面罩生產(chǎn)企業(yè)無法承受，而國內(nèi)生產(chǎn)測(cè)試設(shè)備價(jià)格偏高，性能不穩(wěn)定，拋光液檢測(cè)儀不能對(duì)自吸過濾式防顆粒物呼吸器產(chǎn)品防護(hù)性能提供確定的評(píng)價(jià)。

   拋光液檢測(cè)儀采用凝膠法生產(chǎn)，以二氧化硅為基體，經(jīng)有機(jī)或無機(jī)表面處理而成的新型微粉類消光劑，消光能力強(qiáng)，并且具備優(yōu)良的分散性和防沉性，在油漆漆膜中能夠體現(xiàn)出優(yōu)良的外觀效果、透明性及手感，同時(shí)為幫助客戶降低生產(chǎn)成本提供了一個(gè)良好的選擇。

   拋光液檢測(cè)儀適用于各種涂料體系，包括溶劑型木器涂料、水性木器涂料、工業(yè)涂料及油墨、皮革表面處理劑(邊油)等。拋光液檢測(cè)儀有機(jī)處理，易分散，透明性好，手感好，表面效果好，貯存穩(wěn)定性強(qiáng)，加入經(jīng)有機(jī)物處理的消光劑，使漆膜的豐滿度，抗劃痕性、耐磨性、抗沉積性能更優(yōu)。